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磁控濺射鍍膜設(shè)備(PVD)

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磁控濺射鍍膜設(shè)備(PVD)

  技術(shù)特點(diǎn) Features  

· 磁控濺射沉積。

  鍍膜原理 Coating Principle  

· PVD具有多階陰極，可以制備種子層與多種折射率的疊層TCO。

  可兼容硅片尺寸 Compatible Wafer Size  

· M10, M12/G12, 整片/半片。