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板式透明導電薄膜沉積設備(RPD/PAR)

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板式透明導電薄膜沉積設備(RPD/PAR)


  技術特點  Features  

· PVD具有多階陰極,可以制備種子層與多種折射率的疊層TCO。

· RPD具有無高能離子轟擊襯底特點,能制備高少子遷移率的TCO。